USDe Jadi Stablecoin Terlaris Ketiga, Salip DAI

Volubit.id — Stablecoin sintetis USDe dari Ethena Labs mencatatkan tren adopsi fantastis menjadi salah satu aset kripto dengan pertumbuhan tercepat. Dalam 30 hari terakhir, kapitalisasi pasar USDe tercatat melonjak 73% hingga mencapai all time high (ATH) alias rekor angka tertinggi sepanjang masa $4,77 miliar.

Torehan ini membuat USDe menjadi stablecoin terbesar ketiga di dunia, melampaui DAI yang memiliki kapitalisasi $4,7 miliar. Meskipun demikian, USDe masih berada di bawah Tether (USDT) dan Circle (USDC) dengan market cap masing-masing $135 miliar dan $40 miliar.

Pertumbuhan pesat USDe ini sebagian besar dipicu oleh tingginya minat terhadap aset yang menawarkan yield investasi menggiurkan terutama di semesta decentralized finance (DeFi).

Berdasarkan situs resmi Ethena, USDe menawarkan annual percentage yield (APY) atau imbal hasil hingga 29%. Pendapatan ini diperoleh melalui imbal hasil staking Ether (ETH) yang dilindungi dengan mekanisme hedge pada suku bunga pinjaman ETH.

Lonjakan kapitalisasi USDe mencerminkan meningkatnya minat terhadap aset berbasis imbal hasil tinggi di tengah sentimen bullish pasar kripto. Sebagian besar token USDe disimpan untuk mendapatkan yield ketimbang digunakan untuk transaksi. Kondisi ini berbeda dengan USDT dan USDC yang lebih banyak digunakan sebagai alat transaksi dan pembayaran.

Walau pertumbuhan USDe mengesankan, di sisi lain kondisi ini juga memicu kekhawatiran. Model bisnis Ethena dinilai mirip dengan proyek Terra-Luna yang hancur lebur padaa Mei 2022 lalu setelah stablecoin algoritmik Terra runtuh karena strategi pertumbuhan agresifnya tidak berkelanjutan, yang juga menyebabkan pasar kripto babak belur.

Kendati demikian, permintaan terhadap USDe tetap tinggi. Di Aave yang merupakan protokol lending borrowing DeFi terbesar, staked USDe (sUSDe) menjadi salah satu aset dengan pertumbuhan tercepat di platform tersebut, melonjak dari $2 juta menjadi lebih dari $620 juta hanya dalam dua bulan terakhir.

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *